半导体行业
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晶圆倒角
用于半导体晶圆边缘倒角加工的专用超硬砂轮,通过对晶圆边缘进行圆弧、斜面等轮廓磨削,解决晶圆边缘易崩裂、应力集中等问题,提升品圆的机械稳定性与后续加工适配性。
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砷化镓 (GaAs) 减薄
采用树脂结合剂,磨削力柔和,粗糙度 Ra≤10nm,可定制规格,适配小批量高精度加工,兼容精密减薄设备,精度与效率达行业领先。
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氮化镓 (GaN) 减薄
采用陶瓷结合剂,耐高温耐磨、散热好,避免微裂纹与烧伤,TTV≤3μm,损伤层 < 2.7μm,效率突出,打破国外垄断,助力客户降本。
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氧化镓 (Ga₂O₃) 减薄
不同晶型的氧化镓性能差异较大,采用超细金刚石磨料与优化陶瓷结合剂,可实现不同晶型的氧化镓衬底粗磨、精磨,磨削稳定、磨损小,为新型宽禁带半导体器件生产提供技术支撑。